El grafeno por CVD es obtenido a través del método de Chemical Vapor Deposition (CVD) y puede ser sintetizado sobre cobre (Cu), níquel (Ni) y otros substratos.

El proceso de CVD utiliza un reactor el el que diversos precursores volátiles reaccionan (por ejemplo, gas metano) y los átomos de carbón liberados son depositados en un substrato.

Este método produce un grafeno de alta calidad, alto desempeño y con menos defectos, ya sea monocapa o con muy pocas capas.

El grafeno por CVD tiene múltiples aplicaciones: electrodos transparentes para celdas fotovoltáicas, transistores eléctricos, chips para biosensores, sensores de gas, UV leds y optoelectrónica, sólo por mencionar algunas.

Graphenemex ha instalado el equipo más avanzado de producción de grafeno por CVD. El sistema de CVD Aixtron permite el depósito de grafeno en substratos de hasta 6 pulgadas y ha fortalecido nuestra posición como el productor de grafeno líder en América Latina.

Aixtron CVD Graphenemex

Aixtron CVD Graphenemex

 

Ficha Técnica

Data Sheet CVD Graphene

Data Sheet CVD Graphene